| 用于金属有机物化学沉积设备的扇形进气喷头; 用于金属有机物化学沉积设备的扇形进气喷头 | |
| 胡国新; 王晓亮; 冉军学; 肖红领; 殷海波; 张露; 李晋闽 | |
| Rights Holder | 中国科学院半导体研究所 |
| Date Available | 2011-08-31 ; 2011-08-31 ; 2011-08-31 |
| Country | 中国 |
| Subtype | 发明 |
| Abstract | 一种用于金属有机物化学沉积设备的扇形进气喷头，包括：封闭型外壳体，该外壳体包括上层板、中层板和下层板，在上层板与中层板之间形成供气体进入的进气腔室，在中层板和下层板之间形成冷却腔室，进气腔室被分隔成彼此隔离的多个扇形区域。对于每一个扇形区域，在中层板与下层板之间固定有多个导热的细管，细管在外壳体的高度方向上延伸过冷却腔室，且细管的开口端与进气腔室连通，细管的出口端朝向邻近的衬底表面；进气腔室的至少两个扇形区域引入彼此不同的反应气体。本发明可以使不同的反应气体通过扇形区域均匀送入反应室。通过控制衬底旋转速度，可以减少预反应，实现高质量的材料外延生长，也可以通过提高衬底转速，实现普通外延生长模式。 |
| metadata_83 | 半导体材料科学中心 |
| Application Date | 2010-01-07 |
| Patent Number | CN201010033960.X |
| Language | 中文 |
| Status | 公开 |
| Application Number | CN201010033960.X |
| Patent Agent | 王新华 |
| Document Type | 专利 |
| Identifier | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/22309 |
| Collection | 半导体材料科学中心 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 胡国新,王晓亮,冉军学,等. 用于金属有机物化学沉积设备的扇形进气喷头, 用于金属有机物化学沉积设备的扇形进气喷头. CN201010033960.X. |
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| File Name/Size | DocType | Version | Access | License | ||
| CN201010033960.X.pdf（346KB） | 限制开放 | -- | Application Full Text | |||
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