图案化纳米模板及其制备方法 | |
董敬敬; 张兴旺![]() ![]() ![]() ![]() | |
Rights Holder | 中国科学院半导体研究所 |
Date Available | 2011-08-31 |
Country | 中国 |
Subtype | 发明 |
Abstract | 一种制备图案化纳米模板的方法,包括以下步骤:步骤1:利用提拉法,在亲水性良好的平面衬底上组装PS球,得到单层有序的PS球薄膜;步骤2:利用氧等离子体刻蚀PS球,改变PS球的大小;步骤3:旋涂异丙醇稀释的TiO2溶胶,静置待TiO2溶胶固化,使TiO2溶胶填充PS球间隙;步骤4:甲苯中超声完全去除PS球,得到图案化的纳米模板。 |
metadata_83 | 中科院半导体材料科学重点实验室 |
Patent Number | CN201010520234.0 |
Language | 中文 |
Status | 公开 |
Application Number | CN201010520234.0 |
Patent Agent | 汤保平 |
Document Type | 专利 |
Identifier | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/22181 |
Collection | 中科院半导体材料科学重点实验室 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 董敬敬,张兴旺,尹志岗,等. 图案化纳米模板及其制备方法. CN201010520234.0. |
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