| 栅极调制正装结构GaN基发光二极管的器件结构及制备方法 |
| 刘志强; 郭恩卿; 伊晓燕; 汪炼成; 王国宏; 李晋闽
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专利权人 | 中国科学院半导体研究所
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公开日期 | 2011-08-31
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授权国家 | 中国
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专利类型 | 发明
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摘要 | 一种栅极调制正装结构GaN基发光二极管结构,包括:一蓝宝石衬底;一n型GaN层,该n型GaN层制作在蓝宝石衬底上,该n型GaN层上面的一侧形成有一台面,该台面的深度小于n型GaN层的厚度;一多量子阱有源层,该多量子阱有源层制作在n型GaN层上面没有台面的另一侧上;一p型GaN层,该p型GaN层制作在多量子阱有源层上;一P电极,该p电极制作在p型GaN层上面远离台面的一侧;一N电极,该N电极制作在n型GaN层上面的台面上;一栅极绝缘层,该栅极绝缘层制作在p型GaN层上面没有P电极的另一侧;一栅电极,该电极制作在栅极绝缘层上。 |
部门归属 | 中科院半导体照明研发中心
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专利号 | CN201010534622.4
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语种 | 中文
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专利状态 | 公开
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申请号 | CN201010534622.4
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专利代理人 | 汤保平
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文献类型 | 专利
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条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/22121
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专题 | 中科院半导体照明研发中心
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推荐引用方式 GB/T 7714 |
刘志强,郭恩卿,伊晓燕,等. 栅极调制正装结构GaN基发光二极管的器件结构及制备方法. CN201010534622.4.
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