SEMI OpenIR  > 集成光电子学国家重点实验室
微纳型半导体边发射FP激光器及其制作方法
车凯军; 黄永箴
Rights Holder中国科学院半导体研究所
Date Available2011-08-30
Country中国
Subtype发明
Abstract本发明公开了一种微纳型半导体边发射FP激光器及其制作方法。该边发射FP激光器由下至上依次包括n型衬底(1)、下限制层(2)、有源层(3)、上限制层(4)、P型欧姆接触盖层(5)、侧面绝缘层(6)和正负电极层(7),其中侧面绝缘层(6)和正负电极层(7)中的P型电极层用于侧向限制光场,增强腔侧向的光场或模式限制,降低腔激射阈值,提高腔端面出射效率和激光器的输出的功率。利用本发明,克服了微纳型半导体激光器定向输出的问题,并且易于分析激光器出射的FP模式,光电集成中激光光源将在二维方向上达到纳米尺寸,提高了光电器件的集成度。
metadata_83集成光电子学国家重点实验室
Patent NumberCN201010101999.0
Language中文
Status公开
Application NumberCN201010101999.0
Patent Agent周国城
Document Type专利
Identifierhttp://ir.semi.ac.cn/handle/172111/21975
Collection集成光电子学国家重点实验室
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GB/T 7714
车凯军,黄永箴. 微纳型半导体边发射FP激光器及其制作方法. CN201010101999.0.
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