| The ICP etching technology of 3C-SiC films | |
| Ning J (Ning Jin); Gong QC (Gong Quancheng); Sun GS (Sun Guosheng); Liu ZL (Liu Zhongli) | |
| 2006 | |
| 会议名称 | International MEMS Conference 2006 |
| 会议录名称 | INTERNATIONAL MEMS CONFERENCE 2006, 34: 511-515 2006 |
| 会议日期 | MAY 09-12, 2006 |
| 会议地点 | Singapore, SINGAPORE |
| 学科领域 | 微电子学 |
| 收录类别 | CPCI（ISTP） |
| 语种 | 英语 |
| 文献类型 | 会议论文 |
| 条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/21414 |
| 专题 | 半导体集成技术工程研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Ning J ,Gong QC ,Sun GS ,et al. The ICP etching technology of 3C-SiC films[C],2006. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| The ICP etching tech（325KB） | 限制开放 | 使用许可 | 请求全文 | |||
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