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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhang LX (Zhang Lixin);  Zhou XF (Zhou Xiang-Feng);  Wang HT (Wang Hui-Tian);  Xu JJ (Xu Jing-Jun);  Li JB (Li Jingbo);  Wang EG (Wang E. G.);  Wei SH (Wei Su-Huai);  Zhang, LX, Nankai Univ, Sch Phys, Tianjin 300071, Peoples R China.
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Wang JW (Wang Jian-Wei);  Li SS (Li Shu-Shen);  Wang, JW, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Superlattices & Microstruct, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: sslee@red.semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Wen RM;  Liang JW;  Liang JW,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Beijing 100083,Peoples R China.
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In situ annealing during the growth of relaxed SiGe 会议论文
OPTICAL AND INFRARED THIN FILMS, 4094, SAN DIEGO, CA, 36739
作者:  Li DZ;  Huang CJ;  Cheng BW;  Wang HJ;  Yu Z;  Zhang CH;  Yu JZ;  Wang QM;  Li DZ Chinese Acad Sci Inst Semicond State Key Lab Integrated Optoelect Beijing 100083 Peoples R China.
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Ultrahigh Vacuum Chemical Vapor Deposition  Sige  Refractive High Energy Electron Diffraction  Tansmission Electron Microscopy  Double Crystal X-ray Diffraction  Mobility 2-dimensional Electron  Critical Thickness  Strained Layers  Ge  Relaxation  Epilayers  Si1-xgex  Gesi/si  Gases