Knowledge Management System Of Institute of Semiconductors,CAS
| 新型平面型DFB内光栅耦合结构制作方法 | |
| 朱洪亮; 王圩; 刘国利; 张静媛 | |
| 2004-07-14 | |
| 公开日期 | 2009-06-04 ; 2009-06-11 |
| 专利类型 | 发明 |
| 申请日期 | 2001-02-26 |
| 语种 | 中文 |
| 申请号 | CN01104431.4 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/3077 |
| 专题 | 中国科学院半导体研究所（2009年前） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 朱洪亮,王圩,刘国利,等. 新型平面型DFB内光栅耦合结构制作方法[P]. 2004-07-14. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 01104431.pdf（357KB） | 限制开放 | -- | 请求全文 | |||
| 个性服务 |
| 推荐该条目 |
| 保存到收藏夹 |
| 查看访问统计 |
| 导出为Endnote文件 |
| 谷歌学术 |
| 谷歌学术中相似的文章 |
| [朱洪亮]的文章 |
| [王圩]的文章 |
| [刘国利]的文章 |
| 百度学术 |
| 百度学术中相似的文章 |
| [朱洪亮]的文章 |
| [王圩]的文章 |
| [刘国利]的文章 |
| 必应学术 |
| 必应学术中相似的文章 |
| [朱洪亮]的文章 |
| [王圩]的文章 |
| [刘国利]的文章 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论