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纳流体测试器件的制备方法
张加勇; 王晓峰; 王晓东; 杨富华
专利权人中国科学院半导体研究所
公开日期2011-08-31
授权国家中国
专利类型发明
摘要一种纳流体测试器件的制备方法,包括:在衬底上生长一层电热绝缘材料层和基底材料层;去除基底材料层的四边,形成图形作为制备侧墙的基底;在该电热绝缘材料层的上面和基底材料层的表面及侧面淀积侧墙材料层;去除基底材料层上表面的和电热绝缘材料层表面的侧墙材料层,形成侧墙;去除基底材料层,只保留纳米尺寸的侧墙;在该侧墙材料层的一条边上搭上一条制作电极的抗腐蚀的金属层;在该侧墙材料层的该条边的金属上覆盖一条制作纳流通道的抗腐蚀绝缘材料层;最后去除侧墙材料层,同时剥离掉侧墙身上的金属层和抗腐蚀绝缘材料层,形成两侧埋有金属的通道;在通道两侧金属层上方开孔,引出两端电极即形成纳流体测试器件。
部门归属半导体集成技术工程研究中心
专利号CN200910237086.9
语种中文
专利状态公开
申请号CN200910237086.9
专利代理人汤保平
文献类型专利
条目标识符http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/22381
专题半导体集成技术工程研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
张加勇,王晓峰,王晓东,等. 纳流体测试器件的制备方法. CN200910237086.9.
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