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SEMI OpenIR  > 中国科学院半导体研究所(2009年前)  > 会议论文

题名: Stress analysis of silica-based arrayed waveguide grating by a finite element method
作者: Deng XQ;  Yang QQ;  Wang HJ;  Hu XW;  Wang QM
出版日期: 2002
会议日期: OCT 14-18, 2002
摘要: The stress distribution in silica optical waveguides on silicon is calculated by using finite element method (FEM). The waveguides are mainly subjected to compressive stress along the x direction and the z direction, and it is accumulated near the interfaces between the core and cladding layers. The shift of central wavelength of silica arrayed waveguide grating (AWG) on silicon-substrate with the designed wavelength and the polarization dependence are caused by the stress in the silica waveguides.
会议名称: Photonics Asia Symposium 2002
KOS主题词: Finite element method;  Residual stresses;  Stress (mechanics);  Photoelasticity;  Thermal stresses;  Refraction, Double;  Optical wave guides;  difference method
会议文集: MATERIALS, DEVICES, AND SYSTEMS FOR DISPLAY AND LIGHTING, 4918
专题: 中国科学院半导体研究所(2009年前)_会议论文

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推荐引用方式:
Deng XQ; Yang QQ; Wang HJ; Hu XW; Wang QM .Stress analysis of silica-based arrayed waveguide grating by a finite element method .见:SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING .MATERIALS, DEVICES, AND SYSTEMS FOR DISPLAY AND LIGHTING, 4918,1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, WA 98227-0010 USA ,2002,444-447
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