The effect of Fabry-Perot interference on the packaging of SOI-based optoelectronic devices
Xin HL; Chen P; Li F; Wang CX; Cao P; Liu YL; Xin, HL, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Res & Dev Ctr Optoelect, Beijing 100083, Peoples R China.
2004
会议名称7th International Conference on Solid-State and Integrated Circuits Technology
会议录名称2004 7TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON SOLID-STATE AND INTEGRATED CIRCUITS TECHNOLOGY
页码VOLS 1- 3 PROCEEDINGS: 2021-2024
会议日期OCT 18-21, 2004
会议地点Beijing, PEOPLES R CHINA
出版地345 E 47TH ST, NEW YORK, NY 10017 USA
出版者IEEE
ISBN0-7803-8511-X
部门归属chinese acad sci, inst semicond, res & dev ctr optoelect, beijing 100083, peoples r china
摘要During the packaging of optoelectrome device, a problem always met is the instability of output power. The main effect causing this problem, Fabry-Perot interference, is discussed in this paper. Both theoretical analysis and experimental test are carried out and in good agreement. As an example of avoiding the disadvantage of Fabry-Perot interference, the packaging process of Silicon-on-Insulator (SOI) based Variable Optical Attenuator(VOA) is shown at last.
学科领域光电子学
主办者Chinese Inst Elect.; IEEE Beijing Sect.; IEEE Elect Devices Soc.; IEEE EDS Beijing Chapter.; IEEE Solid-State Circuits Soc.; IEEE SSCS Beijing Chapter.; Japan Soc Appl Phys.; IEE Elect Div.; URSI Commiss D.; Inst Elect Engineers Korea.; Natl Nat Sci Fdn China.; Beijing Municipal Bureau Ind Dev.; Peking Univ.
收录类别其他
语种英语
文献类型会议论文
条目标识符http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/10104
专题中国科学院半导体研究所(2009年前)
通讯作者Xin, HL, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Res & Dev Ctr Optoelect, Beijing 100083, Peoples R China.
推荐引用方式
GB/T 7714
Xin HL,Chen P,Li F,et al. The effect of Fabry-Perot interference on the packaging of SOI-based optoelectronic devices[C]. 345 E 47TH ST, NEW YORK, NY 10017 USA:IEEE,2004:VOLS 1- 3 PROCEEDINGS: 2021-2024.
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