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| 砷化镓衬底上的多层变形缓冲层的制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2008-06-04, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人: 高宏玲; 曾一平; 段瑞飞 ; 王宝强; 朱战平; 崔利杰
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| GaAs 基InAlAs/InGaAs MM-HEMT 材料生长与器件制作 学位论文
, 北京: 中国科学院半导体研究所, 2008
作者: 高宏玲
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: 商丽燕; 林铁; 周文政; 李东临; 高宏玲; 曾一平; 郭少令; 俞国林; 褚君浩
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: 商丽燕; 林铁; 周文政; 郭少令; 李东临; 高宏玲; 崔利杰; 曾一平; 褚君浩
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: 商丽燕; 林铁; 周文政; 黄志明; 李东临; 高宏玲; 崔利杰; 曾一平; 郭少令; 褚君浩
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Zhou WZ (Zhou Wen-Zheng); Lin T (Lin Tie); Shang LY (Shang Li-Yan); Huang ZM (Huang Zhi-Ming); Cui LJ (Cui Li-Jie); Li DL (Li Dong-Lin); Gao HL (Gao Hong-Ling); Zeng YP (Zeng Yi-Pine); Guo SL (Guo Shao-Ling); Gui YS (Gui Yong-Sheng); Chu JH (Chu Jun-Hao); Zhou, WZ, Chinese Acad Sci, Shanghai Inst Tech Phys, Natl Lab Infrared Phys, Shanghai 200083, Peoples R China. 电子邮箱地址: jhchu@mail.sitp.ac.en
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Zhou WZ (Zhou Wen-Zheng); Lin T (Lin Tie); Shang LY (Shang Li-Yan); Huang ZM (Huang Zhi-Ming); Zhu B (Zhu Bo); Cui LJ (Cui Li-Jie); Gao HL (Gao Hong-Ling); Li DL (Li Dong-Lin); Guo SL (Guo Shao-Ling); Gui YS (Gui Yong-Sheng); Chu JH (Chu Jun-Hao); Zhou, WZ, Chinese Acad Sci, Shanghai Inst Tech Phys, Natl Lab Infrared Phys, Shanghai 200083, Peoples R China. 电子邮箱地址: jhchu@mail.sitp.ac.cn
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Gao, HL (Gao Hong-Ling); Li, DL (Li Dong-Lin); Zhou, WZ (Zhou Wen-Zheng); Shang, LY (Shang Li-Yan); Wang, BQ (Wang Bao-Qiang); Zhu, ZP (Zhu Zhan-Ping); Zeng, YP (Zeng Yi-Ping); Gao, HL, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: hlgao@red.semi.ac.cn
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: 高宏玲; 李东临; 周文政; 商丽燕; 王宝强; 朱战平; 曾一平
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: 周文政; 林铁; 商丽燕; 黄志明; 朱博; 崔利杰; 高宏玲; 李东临; 郭少令; 桂永胜; 褚君浩
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