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作者:  Deng QW;  Wang XL;  Yang CB;  Xiao HL;  Wang CM;  Yin HB;  Hou QF;  Li JM;  Wang ZG;  Hou X;  Deng, QW, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Ctr Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. daven@semi.ac.cn
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用于金属有机物化学沉积设备的衬托盘及其制作工艺 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010033965.2, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  殷海波;  王晓亮;  胡国新;  冉军学;  肖红领;  张露;  李晋闽
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用于金属有机物化学沉积设备的气路装置 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010033967.1, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  冉军学;  王晓亮;  胡国新;  肖红领;  张露;  殷海波;  李晋闽
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用于金属有机物化学沉积设备的加热装置 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010033964.8, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  胡国新;  王晓亮;  冉军学;  肖红领;  张露;  殷海波;  李晋闽
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用于金属有机物化学沉积设备的气体分配装置 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010033962.9, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  王晓亮;  冉军学;  胡国新;  肖红领;  张露;  殷海波;  李晋闽
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金属有机物化学沉积设备的反应室 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010033963.3, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  冉军学;  王晓亮;  胡国新;  肖红领;  殷海波;  张露;  李晋闽
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