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可提高砷化铝氧化均匀性的外延片承载装置 专利
专利类型: 实用新型, 申请日期: 2006-05-03, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  佟存柱;  牛智川;  韩勤;  杜云;  吴荣汉
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Yang XH (Yang Xiao-Hong);  Han Q (Han Qin);  Ni HQ (Ni Hai-Qiao);  Huang SS (Huang She-Song);  Du Y (Du Yun);  Peng HL (Peng Hong-Ling);  Xiong YH (Xiong Yong-Hua);  Niu ZC (Niu Zhi-Chuan);  Wu RH (Wu Rong-Han);  Yang, XH, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Integrated Optoelect, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: xhyang@red.semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  韩勤;  彭红玲;  杜云;  倪海桥;  赵欢;  牛智川;  吴荣汉
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Qin Han;  Zhichuan Niu;  Haiqiao Ni;  Shiyong Zhang;  Xiaohong Yang;  Yun Du;  Cunzhu Tong;  Huan Zhao;  Yingqiang Xu;  Hongling Peng;  Ronghan Wu
Adobe PDF(171Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：780/271  |  提交时间：2010/11/23