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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhu NH (Zhu Ning Hua);  Zhang T (Zhang Tao);  Zhang YL (Zhang Ya Li);  Xu GZ (Xu Gui Zhi);  Wen JM (Wen Ji Min);  Huang HP (Huang Heng Pei);  Liu Y (Liu Yu);  Xie L (Xie Liang);  Zhu, NH, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Integrated Optoelect, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China.
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Cao WM (Cao Wenming);  Li N (Li Ning);  Liu SS (Liu Singsing);  Wang SJ (Wang Shoujue);  Cao, WM, Shenzhen Univ Technol, Key Lab Intelligent Informat Proc, Shenzhen 518060, Peoples R China. E-mail: wm-cao@semi.ac.cn
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Homoepitaxial growth and characterization of 4H-SiC epilayers by low-pressure hot-wall chemical vapor deposition 会议论文
Silicon Carbide and Related Materials 2005丛书标题: MATERIALS SCIENCE FORUM, Pittsburgh, PA, SEP 18-23, 2005
作者:  Sun, GS (Sun, Guosheng);  Ning, J (Ning, Jin);  Gong, QC (Gong, Quancheng);  Gao, X (Gao, Xin);  Wang, L (Wang, Lei);  Liu, XF (Liu, Xingfang);  Zeng, YP (Zeng, Yiping);  Li, JM (Li, Jinmin);  Sun, GS, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China.
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Homoepitaxial Growth  Low-pressure Hot-wall Cvd  Structural And Optical Characteristics  Intentional Doping  Schottky Barrier Diodes  
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Liu XF;  Sun GS;  Li JM;  Ning J;  Luo MC;  Wang L;  Zhao WS;  Zeng YP;  Liu, XF, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Novel Semicond Mat Lab, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: liuxf@mail.semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Hu XN (Hu Xue-Ning);  Li XQ (Li Xin-Qi);  Hu, XN, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Superlatt & Microstruct, Beijing 100083, Peoples R China.
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  刘超;  张雅丽;  徐桂芝;  张韬;  侯广辉;  祝宁华
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  胡学宁;  李新奇
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