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基于ART技术的硅基III-V族材料及器件研究 学位论文
, 北京: 中国科学院研究生院, 2016
作者:  李士颜
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高深宽比限制技术  选区外延技术  Si基iii-v族异质外延  Si基高迁移率iii-v族mosfet  纳米激光器  
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhi Liu;  Hui Cong;  Fan Yang;  Chuanbo Li;  Jun Zheng;  Chunlai Xue;  Yuhua Zuo;  Buwen Cheng;  Qiming Wang
Adobe PDF(1211Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：343/5  |  提交时间：2017/03/10