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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhang XW;  Li JB;  Chang K;  Li SS;  Xia JB;  Zhang, XW, Chinese Acad Sci, State Key Lab Superlattices & Microstruct, Inst Semicond, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. xiajb@red.semi.ac.cn
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一种制备InAs室温铁磁性半导体材料的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN200910241700.9, 公开日期: 2011-08-30
发明人:  朱峰;  李京波
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