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The SPER and characteristics of Si1-yCy alloys 会议论文
INTEGRATED OPTOELECTRONICS II, 3551, BEIJING, PEOPLES R CHINA, SEP 18-19, 1998
作者:  Yu Z;  Yu JZ;  Cheng BW;  Lei ZL;  Li DZ;  Wang QM;  Liang JW;  Yu Z Chinese Acad Sci Inst Semicond Beijing 100083 Peoples R China.
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Si1-ycy Alloys  Ion implantatIon  Solid Phase Epitaxy Recrystallization  
Boron diffusion in Ge+ premorphized and BF2+ implanted Si(001) 会议论文
REVISTA MEXICANA DE FISICA, 44, OAXACA, MEXICO, JAN 11-16, 1998
作者:  Zou LF;  Acosta-Ortiz SE;  Zou LX;  Regalado LE;  Sun DZ;  Wang ZG;  Zou LF Ctr Invest Opt AC Unidad Aguascalientes Juan Montoro 207Zona Ctr Aguascalientes 20000 Ags Mexico.
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Electrical-properties  Ion-implantation  Regrowth  Silicon  Layers