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在硅衬底上磁控溅射制备铁磁性锰硅薄膜的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2006-12-27, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  刘力锋;  陈诺夫;  尹志岗;  杨霏;  柴春林
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一种制备三元高K栅介质材料的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2006-05-31, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  李艳丽;  陈诺夫;  刘立峰;  尹志刚;  杨菲;  柴春林
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紫外激光写入制备高折射率差二氧化硅波导的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2006-03-15, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  夏君磊;  吴远大;  安俊明;  郜定山;  李健;  龚春娟;  胡雄伟
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蓝光、黄光量子阱堆叠结构白光发光二极管及制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2006-03-01, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  郭伦春;  王晓亮;  王军喜;  肖红领;  曾一平;  李晋闽
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Li C (Li Chun);  Fang GJ (Fang Guojia);  Su FH (Su Fuhai);  Li GH (Li Guohua);  Wu XG (Wu Xiaoguang);  Zhao XZ (Zhao Xingzhong);  Fang, GJ, Wuhan Univ, Dept Phys, Wuhan 430072, Peoples R China. E-mail: gjfang@whu.edu.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Li C (Li Chun);  Fang GJ (Fang Guojia);  Fu Q (Fu Qiang);  Su FH (Su Fuhai);  Li GH (Li Guohua);  Wu XG (Wu Xiaoguang);  Zhao XZ (Zhao Xingzhong);  Fang, GJ, Wuhan Univ, Dept Phys, Wuhan 430072, Peoples R China. E-mail: gjfang@whu.edu.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Wang CX (Wang Chun-Xia);  Xu XS (Xu Xing-Sheng);  Li F (Li Fang);  Du W (Du Wei);  Xiong GG (Xiong Gui-Guang);  Liu YL (Liu Yu-Liang);  Chen HD (Chen Hong-Da);  Wang, CX, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Integrated Optoelect, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: cxwang@red.semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Wang BZ (Wang Bao-Zhu);  Wang XL (Wang Xiao-Liang);  Hu GX (Hu Guo-Xin);  Ran JX (Ran Jun-Xue);  Wang XH (Wang Xin-Hua);  Guo LC (Guo Lun-Chun);  Xiao HL (Xiao Hong-Ling);  Li JP (Li Jian-Ping);  Zeng YP (Zeng Yi-Ping);  Li JM (Li Jin-Min);  Wang ZG (Wang Zhan-Guo);  Wang, BZ, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: wangbz@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  胡小凤;  黎晓新;  吴慧娟;  陈品华;  曹晓光;  徐秀兰;  刘国栋;  李春安;  裴为华;  陈弘达;  隋晓红;  刘金彬
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  李国华;  马宝珊;  王文杰;  苏付海;  丁琨;  赵建华;  邓加军;  蒋春萍
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