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新型平面型DFB内光栅耦合结构制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2004-07-14, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  朱洪亮;  王圩;  刘国利;  张静媛
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zeng, XB;  Liao, XB;  Wang, B;  Dai, ST;  Xu, YY;  Xiang, XB;  Hu, ZH;  Diao, HW;  Kong, GL;  Zeng, XB, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Surface Phys, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: xbzeng@mail.semi.ac.cn
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