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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhou, Zhi-Wen;  He, Jing-Kai;  Li, Cheng;  Yu, Jin-Zhong;  Zhou, Z.-W.(zhouzw@sziit.com.cn)
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Xue HY (Xue Hai-Yun);  Xue CL (Xue Chun-Lai);  Cheng BW (Cheng Bu-Wen);  Yu YD (Yu Yu-De);  Wang QM (Wang Qi-Ming);  Xue, HY, Chinese Acad Sci, State Key Lab Integrated Optoelect, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: xuehy@semi.ac.cn;  cbw@semi.ac.cn
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In situ annealing during the growth of relaxed SiGe 会议论文
OPTICAL AND INFRARED THIN FILMS, 4094, SAN DIEGO, CA, 36739
作者:  Li DZ;  Huang CJ;  Cheng BW;  Wang HJ;  Yu Z;  Zhang CH;  Yu JZ;  Wang QM;  Li DZ Chinese Acad Sci Inst Semicond State Key Lab Integrated Optoelect Beijing 100083 Peoples R China.
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Ultrahigh Vacuum Chemical Vapor Deposition  Sige  Refractive High Energy Electron Diffraction  Tansmission Electron Microscopy  Double Crystal X-ray Diffraction  Mobility 2-dimensional Electron  Critical Thickness  Strained Layers  Ge  Relaxation  Epilayers  Si1-xgex  Gesi/si  Gases