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Applications of dielectric thin film by electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition for semiconductor photoelectronic devices 会议论文
SEMICONDUCTOR LASERS III, 3547, BEIJING, PEOPLES R CHINA, SEP 16-18, 1998
作者:  Mao DS;  Tan MQ;  Chen LH;  Mao DS Chinese Acad Sci Inst Semicond POB 912 Beijing 100083 Peoples R China.
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Ecr Cvd  Thin Film  Photoelectronic Device