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中国科学院半导体研究所机构知识库
Knowledge Management System Of Institute of Semiconductors,CAS
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提交时间:2010/11/23
一种化学气相淀积外延设备用的进气装置
专利
专利类型: 实用新型, 专利号: CN200920222264.6, 公开日期: 2011-08-30
发明人:
朱建军
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史永生
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提交时间:2011/08/30