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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Gao F;  Huang DD;  Li JP;  Kong MY;  Sun DZ;  Li JM;  Zeng YP;  Lin LY;  Gao F,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Ctr Mat Sci,POB 912,Beijing 100083,Peoples R China.
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Gao F;  Huang CJ;  Huang DD;  Li JP;  Sun DZ;  Kong MY;  Zeng YP;  Li JM;  Lin LY;  Gao F,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Ctr Mat Sci,POB 912,Beijing 100083,Peoples R China.
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Liu JP;  Huang DD;  Li JP;  Lin YX;  Sun DZ;  Kong MY;  Huang DD,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Ctr Mat Sci,POB 912,Beijing 100083,Peoples R China.
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhang JP;  Wang XL;  Sun DZ;  Kong MY;  Zhang JP,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Novel Mat Ctr,POB 912,Beijing 100083,Peoples R China.
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Gao F;  Huang DD;  Li JP;  Lin YX;  Kong MY;  Li JM;  Zeng YP;  Lin LY;  Gao F,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Ctr Mat Sci,POB 912,Beijing 100083,Peoples R China.
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Gao F;  Huang DD;  Li JP;  Lin YX;  Kong MY;  Sun DZ;  Li JM;  Lin LY;  Gao F,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Ctr Mat Sci,POB 912,Beijing 100083,Peoples R China.
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Effect of rapid thermal annealing on the Raman spectrum of Si0.33Ge0.67/Si (100) alloy 会议论文
NONDESTRUCTIVE CHARACTERIZATION OF MATERIALS IX, 497, SYDNEY, AUSTRALIA, JUN 28-JUL 02, 1999
作者:  Liu JP;  Kong MY;  Huang DD;  Li JP;  Sun DZ;  Liu JP Chinese Acad Sci Inst Semicond Ctr Mat Sci POB 912 Beijing 100083 Peoples R China.
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Strain-shift Coefficients  Si1-xgex  Silicon  Phonons  
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Liu JP;  Huang DD;  Li JP;  Sun DZ;  Kong MY;  Liu JP,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Ctr Mat Sci,POB 912,Beijing 100083,Peoples R China.
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Structural and infrared absorption properties of self-organized InGaAs GaAs quantum dots multilayers 会议论文
JOURNAL OF ELECTRONIC MATERIALS, 28 (5), CHARLOTTESVILLE, VIRGINIA, JUN 24-26, 1998
作者:  Zhuang QD;  Li JM;  Zeng YP;  Pan L;  Chen YH;  Kong MY;  Lin LY;  Zhuang QD Chinese Acad Sci Inst Semicond Novel Mat Ctr POB 912 Beijing 100083 Peoples R China.
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InGaas Gaas Quantum Dots  Infrared Absorption  Self-organization  X-ray-diffraction  Islands  Transitions  
Strain-induced morphological evolution and preferential interdiffusion in SiGe epitaxial film on Si(100) during high-temperature annealing 会议论文
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH, 201, CANNES, FRANCE, AUG 31-SEP 04, 1998
作者:  Liu JP;  Kong MY;  Liu XF;  Li JP;  Huang DD;  Li LX;  Sun DZ;  Kong MY Chinese Acad Sci Inst Semicond Ctr Mat Sci POB 912 Beijing 100083 Peoples R China.
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Stranski-krastanow Growth  Quantum Dots  Relaxation  Inas