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HfO2铁电层和硅纳米线的缺陷性质研究 学位论文
, 中国科学院半导体研究所: 中国科学院大学, 2024
作者:  张才鑫
Adobe PDF(4697Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：124/1  |  提交时间：2024/10/17