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中国科学院半导体研究所机构知识库
Knowledge Management System Of Institute of Semiconductors,CAS
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专题:中国科学院半导体研究所(2009年前)
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无权访问的条目
期刊论文
作者:
Ding K (Ding, K.)
;
Zeng YP (Zeng, Y. P.)
;
Wei XC (Wei, X. C.)
;
Li ZC (Li, Z. C.)
;
Wang JX (Wang, J. X.)
;
Lu HX (Lu, H. X.)
;
Cong PP (Cong, P. P.)
;
Yi XY (Yi, X. Y.)
;
Wang GH (Wang, G. H.)
;
Li JM (Li, J. M.)
;
Ding, K, Chinese Acad Sci, Key Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: dingkai@red.semi.ac.cn
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浏览/下载:1401/502
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提交时间:2010/03/08
无权访问的条目
期刊论文
作者:
黄振
;
于斌
;
赵国忠
;
张存林
;
崔利杰
;
曾一平
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浏览/下载:1365/414
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提交时间:2010/11/23
紫外光直写制作掺铒杂化SiO2光波导放大器的方法
专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2008-12-31, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:
王鵫
;
吴远大
;
李建光
;
王红杰
;
安俊明
;
胡雄伟
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浏览/下载:1483/256
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提交时间:2009/06/11
一种制备氮化物单晶衬底的氢化物气相外延装置
专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2008-06-25, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:
段瑞飞
;
刘喆
;
钟兴儒
;
魏同波
;
马平
;
王军喜
;
曾一平
;
李晋闽
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浏览/下载:1361/234
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提交时间:2009/06/11
无权访问的条目
期刊论文
作者:
王柱
;
柯君玉
;
李辉
;
庞锦标
;
戴益群
;
赵有文
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浏览/下载:762/233
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提交时间:2010/11/23
在硅衬底上生长无裂纹氮化镓薄膜的方法
专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2007-05-23, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:
刘喆
;
李晋闽
;
王军喜
;
王晓亮
;
王启元
;
刘宏新
;
王俊
;
曾一平
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浏览/下载:1302/227
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提交时间:2009/06/11
无权访问的条目
期刊论文
作者:
Li RY (Li R. Y.)
;
Wang ZG (Wang Z. G.)
;
Xu B (Xu B.)
;
Jin P (Jin P.)
;
Guo X (Guo X.)
;
Chen M (Chen M.)
;
Li, RY, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: ryli@red.semi.ac.cn
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浏览/下载:1095/363
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提交时间:2010/04/11
无权访问的条目
期刊论文
作者:
Zhou, WZ (Zhou, W. Z.)
;
Lin, T (Lin, T.)
;
Shang, LY (Shang, L. Y.)
;
Yu, G (Yu, G.)
;
Huang, ZM (Huang, Z. M.)
;
Guo, SL (Guo, S. L.)
;
Gui, YS (Gui, Y. S.)
;
Dai, N (Dai, N.)
;
Chu, JH (Chu, J. H.)
;
Cui, LJ (Cui, L. J.)
;
Li, DL (Li, D. L.)
;
Gao, HL (Gao, H. L.)
;
Zeng, YP (Zeng, Y. P.)
;
Chu, JH, Chinese Acad Sci, Shanghai Inst Tech Phys, Natl Lab Infrared Phys, Shanghai 200083, Peoples R China. 电子邮箱地址: jhchu@mail.sitp.ac.cn
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浏览/下载:1053/364
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提交时间:2010/03/29
无权访问的条目
期刊论文
作者:
Li, JM (Li, J. M.)
;
Qian, KY (Qian, K. Y.)
;
Zhu, QS (Zhu, Q. S.)
;
Wang, ZG (Wang, Z. G.)
;
Li, JM, Tsing Hua Univ, Grad Sch Shenzhen, Semicond Lighting Lab, Shenzhen 518055, Peoples R China. 电子邮箱地址: jiemli@red.semi.ac.cn
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浏览/下载:994/268
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提交时间:2010/03/29
制造厚膜氮化物材料的氢化物气相外延装置
专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2006-12-20, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:
刘喆
;
王军喜
;
钟兴儒
;
李晋闽
;
曾一平
;
段瑞飞
;
马平
;
魏同波
;
林郭强
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浏览/下载:1597/189
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提交时间:2009/06/11