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借助保护层的取样光栅的制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2010-08-12, 公开日期: 2010-01-13, 2010-08-12
发明人:  王 桓;  阚 强;  周 帆;  王宝君;  朱洪亮
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用于半导体器件中的取样光栅的制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2010-08-12, 公开日期: 2009-12-16, 2010-08-12
发明人:  王 桓;  王宝君;  朱洪亮
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhu HL (Zhu Hongliang);  Xu XD (Xu Xiaodong);  Wang H (Wang Huan);  Kong DH (Kong Duanhua);  Liang S (Liang Song);  Zhao LJ (Zhao Lingjuan);  Wang W (Wang Wei);  Zhu, HL, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail Address: Zhuhl@semi.ac.cn;  xdxu@semi.ac.cn;  wanghuan21@semi.ac.cn;  kdh@semi.ac.cn;  liangsong@semi.ac.cn;  ljzhao@red.semi.ac.cn;  wwang@red.semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  李俊一;  安俊明;  吴远大;  李建光;  王红杰;  胡雄伟
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  朱洪亮;  许晓冬;  王桓;  孔端花;  梁松;  王宝军;  赵玲娟;  王圩
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