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用磁控溅射法在镓砷衬底上外延生长铟砷锑薄膜的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2006-11-22, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  彭长涛;  陈诺夫;  吴金良;  尹志冈;  杨霏
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一种制备三元高K栅介质材料的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2006-05-31, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  李艳丽;  陈诺夫;  刘立峰;  尹志刚;  杨菲;  柴春林
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Ma XT (Ma Xiao-Tao);  Zheng WH (Zheng Wan-Hua);  Ren G (Ren Gang);  Chen LH (Chen Liang-Hui);  Ma, XT, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Nanooptoelect Lab, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: whzheng@red.semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Bingyuan Zhang;  Gang Li;  Meng Chen;  Guoju Wang;  Yonggang Wang
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  许兴胜;  熊志刚;  孙增辉;  杜伟;  鲁琳;  陈弘达;  金爱子;  张道中
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