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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Xu Y (Xu Ying);  Diao HW (Diao Hong-Wei);  Zhang SB (Zhang Shi-Bin);  Li XD (Li Xu-Dong);  Zeng XB (Zeng Xiang-Bo);  Wang WJ (Wang Wen-Jing);  Liao XB (Liao Xian-Bo);  Xu, Y, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Surface Phys, Beijing 100083, Peoples R China.
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  许颖;  刁宏伟;  张世斌;  励旭东;  曾湘波;  王文静;  廖显伯
Adobe PDF(396Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：995/261  |  提交时间：2010/11/23
Recent research results on deep level defects in semi-insulating InP - Application to improve material quality 会议论文
2006 International Conference on Indium Phosphide and Related Materials Conference Proceedings, Princeton, NJ, MAY 07-11, 2006
作者:  Zhao, YW (Zhao, Youwen);  Dong, ZY (Dong, Zhiyuan);  Dong, HW (Dong, Hongwei);  Sun, NF (Sun, Niefeng);  Sun, TN (Sun, Tongnian);  Zhao, YW, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China.
Adobe PDF(376Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1594/450  |  提交时间：2010/03/29
Stimulated Current Spectroscopy  Current Transient Spectroscopy  Fe-doped Inp  Point-defects  Compensation  Temperature  Donors  Traps  
无权访问的条目 期刊论文
作者:  肖宛昂;  胡红武;  邹立东
Adobe PDF(148Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1000/344  |  提交时间：2010/11/23
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhao, YW;  Dong, HW;  Li, JM;  Ling, LY;  Zhao, YW, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Ctr Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: zhaoyw@red.semi.ac.cn
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磷化铟单晶片的抛光工艺 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2003-03-12, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  董宏伟;  赵有文;  杨子祥;  焦景华
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Dong HW;  Zhao YW;  Li JM;  Dong HW,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Ctr Mat Sci,POB 912,Beijing 100083,Peoples R China.
Adobe PDF(119Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1802/569  |  提交时间：2010/08/12
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Dong HW;  Zhao YW;  Zeng YP;  Jiao JH;  Li JM;  Lin LY;  Dong HW,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Ctr Mat Sci,POB 912,Beijing 100083,Peoples R China.
Adobe PDF(145Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1310/426  |  提交时间：2010/08/12
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Dong HW;  Zhao YW;  Jiao JH;  Zeng YP;  Li JM;  Lin LY;  Dong HW,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Ctr Mat Sci,Beijing 100083,Peoples R China.
Adobe PDF(29Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1229/572  |  提交时间：2010/08/12
非掺杂磷化铟（InP）的高温退火研究— 半绝缘材料的点缺陷、制备、性质、应用对比 学位论文
, 北京: 中国科学院半导体研究所, 2003
作者:  董宏伟
Adobe PDF(3065Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1024/23  |  提交时间：2009/04/13