| Ⅲ族氮化物材料热壁化学气相沉积制备研究 | |
牛慧丹
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| Subtype | 博士 |
| 2023-05-30 | |
| Degree Grantor | 中国科学院大学 |
| Place of Conferral | 中国科学院半导体研究所 |
| Degree Name | 工学博士 |
| Language | 中文 |
| Document Type | 学位论文 |
| Identifier | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/31645 |
| Collection | 中科院半导体材料科学重点实验室 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 牛慧丹. Ⅲ族氮化物材料热壁化学气相沉积制备研究[D]. 中国科学院半导体研究所. 中国科学院大学,2023. |
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| File Name/Size | DocType | Version | Access | License | ||
| GK2023082-博士-材料重点-牛慧（6073KB） | 学位论文 | 限制开放 | CC BY-NC-SA | Application Full Text | ||
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