| 用于金属有机化合物化学气相沉积设备反应室的进气顶盘 | |
| 王晓亮; 殷海波; 肖红领; 姜丽娟; 冯春 | |
| Rights Holder | 中国科学院半导体所 |
| Date Available | 2016-09-29 |
| Country | 中国 |
| Subtype | 发明 |
| Subject Area | 半导体材料 |
| Application Date | 2015-01-05 |
| Application Number | CN201510002676.9 |
| Document Type | 专利 |
| Identifier | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/27632 |
| Collection | 中科院半导体材料科学重点实验室 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 王晓亮,殷海波,肖红领,等. 用于金属有机化合物化学气相沉积设备反应室的进气顶盘. |
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| 用于金属有机化合物化学气相沉积设备反应室（700KB） | 限制开放 | License | Application Full Text | |||
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