SEMI OpenIR  > 半导体集成技术工程研究中心
半导体晶体管结构及其制造方法; 半导体晶体管结构及其制造方法
张严波; 韩伟华; 杜彦东; 李小明; 陈艳坤; 杨香; 杨富华
Rights Holder中国科学院半导体研究所
Date Available2012-09-07 ; 2011-12-14 ; 2012-09-07
Country中国
Subtype发明
Abstract 一种半导体晶体管结构,包括:一绝缘体上硅,该绝缘体上硅包括埋氧层和顶层硅,该顶层硅的中间有一凹部,该凹部两侧分别为顶层硅的源区和漏区,该源区和漏区之间通过多个硅鳍状结构连接形成沟道,该顶层硅的源区、漏区和硅鳍状结构为同一掺杂类型;一栅极导电条制作在凹部内,并包裹硅鳍状结构;一漏电极,该漏电极制作在顶层硅的漏区上;一源电极,该源电极制作在顶层硅的源区上;一栅电极,该栅电极制作在栅极导电条上。
metadata_83半导体集成技术工程研究中心
Application Date2011-08-22
Patent NumberCN102280454A
Language中文
Status公开
Application Number CN201110241106.7
Document Type专利
Identifierhttp://ir.semi.ac.cn/handle/172111/23346
Collection半导体集成技术工程研究中心
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GB/T 7714
张严波,韩伟华,杜彦东,等. 半导体晶体管结构及其制造方法, 半导体晶体管结构及其制造方法. CN102280454A.
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