生长气氛对化学气相沉积石墨烯的影响
施辉东
学位类型硕士
导师张兴旺
2012
学位授予单位中国科学院研究生院
学位授予地点北京
学位专业材料物理与化学
学科领域半导体材料
公开日期2012-06-18
文献类型学位论文
条目标识符http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/23162
专题中科院半导体材料科学重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
施辉东. 生长气氛对化学气相沉积石墨烯的影响[D]. 北京. 中国科学院研究生院,2012.
条目包含的文件
文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
施辉东.pdf(4753KB) 限制开放使用许可请求全文
个性服务
推荐该条目
保存到收藏夹
查看访问统计
导出为Endnote文件
谷歌学术
谷歌学术中相似的文章
[施辉东]的文章
百度学术
百度学术中相似的文章
[施辉东]的文章
必应学术
必应学术中相似的文章
[施辉东]的文章
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。