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一种超高真空多功能综合测试系统; 一种超高真空多功能综合测试系统
杨晋玲; 刘云飞; 解婧; 杨富华
专利权人中国科学院半导体研究所
公开日期2011-08-31 ; 2011-08-31 ; 2011-08-31
授权国家中国
专利类型发明
摘要本发明公开了一种用于微纳器件表面处理、表面修饰、原位表征的超高真空多功能综合测试系统,包括:第一超高真空室;第二超高真空室,该第二超高真空室与第一超高真空室真空密封连接;常压室,该常压室与第二超高真空室真空密封连接;以及一系统支架,该系统支架为一矩形框架;其中,该第一超高真空室、第二超高真空室和常压室固定于该系统支架,形成超高真空测试系统。利用本发明,实现了将微纳器件表面处理、表面修饰、原位机械性能表征和电学性能测试等功能的集成,避免了因处理后的样品表面在传递和测试过程中被再次污染而造成测试结果的严重偏差,为清晰准确地研究表面损失对器件机械及电学性能的影响提供了保证。
部门归属半导体集成技术工程研究中心
专利号CN201010171385.X
语种中文
专利状态公开
申请号CN201010171385.X
专利代理人周国城
文献类型专利
条目标识符http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/22365
专题半导体集成技术工程研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
杨晋玲,刘云飞,解婧,等. 一种超高真空多功能综合测试系统, 一种超高真空多功能综合测试系统. CN201010171385.X.
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