垂直相变存储器及制备方法 | |
张加勇; 王晓峰; 马慧莉![]() ![]() | |
Rights Holder | 中国科学院半导体研究所 |
Date Available | 2011-08-31 |
Country | 中国 |
Subtype | 发明 |
Abstract | 一种垂直相变存储器,包括:一衬底;一底部电极,该底部电极制作在衬底上;一下电热绝缘材料层,该下电热绝缘材料层制作在底部电极上;一低热导率材料包裹层,该低热导率材料包裹层制作在下电热绝缘材料层上;一上电热绝缘材料层,该上电热绝缘材料层制作在低热导率材料包裹层上;其中所述的下电热绝缘材料层、低热导率材料包裹层和上电热绝缘材料层的中间有一小孔;一相变材料插塞柱,该相变材料插塞柱位于下电热绝缘材料层、低热导率材料包裹层和上电热绝缘材料层中间的小孔内;一顶部电极,该顶部电极制作在上电热绝缘材料层上,并覆盖相变材料插塞柱。 |
metadata_83 | 半导体集成技术工程研究中心 |
Patent Number | CN201010256816.2 |
Language | 中文 |
Status | 公开 |
Application Number | CN201010256816.2 |
Patent Agent | 汤保平 |
Document Type | 专利 |
Identifier | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/22353 |
Collection | 半导体集成技术工程研究中心 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 张加勇,王晓峰,马慧莉,等. 垂直相变存储器及制备方法. CN201010256816.2. |
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