| 用于金属有机物化学沉积设备的气体分配装置 |
| 王晓亮; 冉军学; 胡国新; 肖红领; 张露; 殷海波 ; 李晋闽
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| 专利权人 | 中国科学院半导体研究所
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| 公开日期 | 2011-08-31
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| 授权国家 | 中国
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| 专利类型 | 发明
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| 摘要 | 本发明公开一种用于金属有机物化学沉积设备的气体分配装置，包括：通过氮气管道连接到氮气气源的氮气分配管路，该氮气分配管路具有多个氮气分配支路；通过氢气管道连接到氢气源的氢气分配管路，该氢气分配管路具有多个氢气分配支路，其中，氮气分配管路的一个氮气分配支路与氢气分配管路的一个氢气分配支路连接，在连接处安装有连接处单向阀门，该连接处单向阀门打开时允许氮气通过其进入到氢气分配管路以执行吹洗操作、同时防止氢气通过其进入到氮气分配管路。本发明的气体分配装置可以实现气源气体的多路分配，准确控制各管路需要压力，从而实现不同使用目的的气体供应需要。 |
| 部门归属 | 半导体材料科学中心
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| 专利号 | CN201010033962.9
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| 语种 | 中文
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| 专利状态 | 公开
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| 申请号 | CN201010033962.9
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| 专利代理人 | 王新华
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| 文献类型 | 专利
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| 条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/22307
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| 专题 | 半导体材料科学中心
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
王晓亮,冉军学,胡国新,等. 用于金属有机物化学沉积设备的气体分配装置. CN201010033962.9.
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