| 一种用于金属有机物化学气相沉积设备的进气喷头结构 |
| 冉军学; 胡国新; 梁勇; 王军喜; 段瑞飞 ; 曾一平; 李晋闽
|
| 专利权人 | 中国科学院半导体研究所
|
| 公开日期 | 2011-08-31
|
| 授权国家 | 中国
|
| 专利类型 | 发明
|
| 摘要 | 本发明公开了一种用于金属有机物化学气相沉积设备的进气喷头结构，该结构包括进气顶盘法兰和水冷匀气板，该进气顶盘法兰为一圆形金属盘状结构，中间为圆形凹坑，沿圆形凹坑径向用板条隔开，分为2n个扇形区，n为大于1的整数；该水冷匀气板分为有机源水冷匀气板和氢化物气体水冷匀气板，每一个扇形区对应一个水冷匀气板。利用本发明，可以使反应气体均匀的进入反应室内，使反应室内气体达到均匀生长的气流模式。 |
| 部门归属 | 半导体材料科学中心
|
| 专利号 | CN201010269018.3
|
| 语种 | 中文
|
| 专利状态 | 公开
|
| 申请号 | CN201010269018.3
|
| 专利代理人 | 周国城
|
| 文献类型 | 专利
|
| 条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/22297
|
| 专题 | 半导体材料科学中心
|
推荐引用方式
GB/T 7714 |
冉军学,胡国新,梁勇,等. 一种用于金属有机物化学气相沉积设备的进气喷头结构. CN201010269018.3.
|
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论