利用极化感应空穴实现p型金属极性宽禁带半导体的方法 | |
丁凯![]() ![]() ![]() | |
Rights Holder | 中国科学院半导体研究所 |
Date Available | 2011-08-31 |
Country | 中国 |
Subtype | 发明 |
Abstract | 一种利用极化感应空穴实现p型金属极性宽禁带半导体的方法,其步骤包括:步骤1:选取一个衬底;步骤2:在衬底上生长低温成核层,利于成核;步骤3:在低温成核层上生长低温缓冲层,可以减少位错密度,提高晶体质量;步骤4:在低温缓冲层上生长极性宽禁带半导体化合物,完成p型金属极性宽禁带半导体的制备。 |
metadata_83 | 中科院半导体照明研发中心 |
Patent Number | CN201010128387.0 |
Language | 中文 |
Status | 公开 |
Application Number | CN201010128387.0 |
Patent Agent | 汤保平 |
Document Type | 专利 |
Identifier | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/22151 |
Collection | 中科院半导体照明研发中心 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 丁凯,张连,王军喜,等. 利用极化感应空穴实现p型金属极性宽禁带半导体的方法. CN201010128387.0. |
Files in This Item: | ||||||
File Name/Size | DocType | Version | Access | License | ||
CN201010128387.0.pdf(337KB) | 限制开放 | -- | Application Full Text |
Items in the repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.
Edit Comment