SEMI OpenIR  > 集成光电子学国家重点实验室
一种化学气相淀积外延设备用的进气装置
朱建军; 王海; 史永生
Rights Holder中国科学院半导体研究所
Date Available2011-08-30
Country中国
Subtype实用新型
Abstract本实用新型公开了一种化学气相淀积外延设备用的进气装置,该装置包含:一进气法兰盘,该法兰盘与筛板法兰通过密封胶圈密封连接;一匀气筛板,该匀气筛板嵌装入该进气法兰盘底面中央的圆形沉槽中;一中层筛板,该中层筛板与筛板法兰通过密封胶圈密封连接,中层筛板上的管与筛板法兰所对应的管对接在一起;一筛板法兰,该筛板法兰与反应腔密封连接。该装置将各种不同种类的原料气通过多个喷气筛孔喷射进入反应室内,并且不同的原料气相互交错,空间上分布均匀。该装置加工工艺简单,成本低,成品率高,应用在半导体外延材料制备过程中,该装置结构简单,易于清洗,有利于提高工艺的稳定性和重复性。
metadata_83集成光电子学国家重点实验室
Patent NumberCN200920222264.6
Language中文
Status公开
Application NumberCN200920222264.6
Patent Agent周国城
Document Type专利
Identifierhttp://ir.semi.ac.cn/handle/172111/22031
Collection集成光电子学国家重点实验室
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GB/T 7714
朱建军,王海,史永生. 一种化学气相淀积外延设备用的进气装置. CN200920222264.6.
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