Integrated tapered MMI couplers in the silicon-on-insulator technology

SEMI OpenIR > 中国科学院半导体研究所（2009年前）

	Integrated tapered MMI couplers in the silicon-on-insulator technology
	Wei HZ; Yu JZ; Liu ZG; Ma HZ; Li GH; Zhang XF; Wang LC; Wei HZ Chinese Acad Sci Inst Semicond State Key Lab Integrated Optoelect Beijing 100083 Peoples R China.
	2001
会议名称	4th Pacific Rim Conference on Lasers and Electro-Optics
会议录名称	CLEO(R)/PACIFIC RIM 2001, VOL II, TECHNICAL DIGEST
页码	246-247
会议日期	JUL 15-19, 2001
会议地点	CHIBA, JAPAN
出版地	345 E 47TH ST, NEW YORK, NY 10017 USA
出版者	IEEE
ISBN	0-7803-6738-3
部门归属	chinese acad sci, inst semicond, state key lab integrated optoelect, beijing 100083, peoples r china
摘要	The authors have designed and fabricated 2x2 parabolically tapered MMI coupler with large cross-section and large space between difference ports using Silicon-on-Insulator ( SOI) technology. The devices demonstrate a minimum uniformity of 0.8dB and 30% shorter than the straight MMI coupler.
关键词	Devices
学科领域	光电子学
主办者	Japan Soc Appl Phys.; IEICE Elect Soc.; IEICE Commun Soc.; IEEE Lasers & Electro Opt Soc.; Opt Soc Amer.; Optoelect Ind & Technol Dev Assoc.
收录类别	CPCI-S
语种	英语
文献类型	会议论文
条目标识符	http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/13635
专题	中国科学院半导体研究所（2009年前）
通讯作者	Wei HZ Chinese Acad Sci Inst Semicond State Key Lab Integrated Optoelect Beijing 100083 Peoples R China.
推荐引用方式 GB/T 7714	Wei HZ,Yu JZ,Liu ZG,et al. Integrated tapered MMI couplers in the silicon-on-insulator technology[C]. 345 E 47TH ST, NEW YORK, NY 10017 USA:IEEE,2001:246-247.

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