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| 分布反馈半导体激光器中光栅的干法刻蚀制作工艺 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2008-06-11, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人: 付生辉; 宋国锋; 陈良惠
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| 双区分布布拉格反射镜半导体激光器结构和制备方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2008-06-11, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人: 付生辉; 钟源; 宋国锋; 陈良惠
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| 用于半导体激光器中光栅制作的腐蚀液及制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2007-11-28, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人: 付生辉; 钟源; 陈良惠
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| 波长为852nm的分布反馈激光器的结构和制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2007-11-28, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人: 付生辉; 钟源; 陈良惠
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| 高功率窄线宽频率高度稳定的852nm 分布反馈半导体激光器 学位论文
, 北京: 中国科学院半导体研究所, 2007
作者: 付生辉
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: 付生辉; 宋国峰; 陈良惠
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Fu Shenghui; Song Guofeng; Zhong Yuan; Chen Lianghui
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