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用于制备二维光子晶体的双光束全息干涉多次曝光方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2009-10-28, 公开日期: 　
发明人:  陆全勇
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Liu FQ (Liu Feng-Qi);  Li L (Li Lu);  Wang LJ (Wang Lijun);  Liu JQ (Liu Junqi);  Zhang W (Zhang Wei);  Zhang QD (Zhang Quande);  Liu WF (Liu Wanfeng);  Lu QY (Lu Quanyong);  Wang ZG (Wang Zhanguo);  Liu, FQ, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: fqliu@red.semi.ac.cn
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