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无权访问的条目 期刊论文
作者:  张连;  魏学成;  路坤熠;  魏同波;  王军喜;  李晋闽
Adobe PDF(2239Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：467/8  |  提交时间：2016/04/15
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Yang, YJ;  Ma, P;  Wei, XC;  Zeng, YP
Adobe PDF(899Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：539/116  |  提交时间：2015/03/25
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Wu, K;  Wei, TB;  Zheng, HY;  Lan, D;  Wei, XC;  Hu, Q;  Lu, HX;  Wang, JX;  Luo, Y;  Li, JM
Adobe PDF(2609Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：569/85  |  提交时间：2015/04/02
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Ji, XL;  Wei, TB;  Yang, FH;  Lu, HX;  Wei, XC;  Ma, P;  Yi, XY;  Wang, JX;  Zeng, YP;  Wang, GH;  Li, JM
Adobe PDF(471Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：510/95  |  提交时间：2015/04/02
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Yang, JK;  Wei, TB;  Huo, ZQ;  Zhang, YH;  Hu, Q;  Wei, XC;  Sun, BJ;  Duan, RF;  Wang, JX
Adobe PDF(3840Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：548/75  |  提交时间：2015/05/11
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Dong, P;  Yan, JC;  Zhang, Y;  Wang, JX;  Geng, C;  Zheng, HY;  Wei, XC;  Yan, QF;  Li, JM
Adobe PDF(2207Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：734/129  |  提交时间：2015/05/11
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Ma J (Ma, Jun);  Ji XL (Ji, Xiaoli);  Wang GH (Wang, Guohong);  Wei XC (Wei, Xuecheng);  Lu HX (Lu, Hongxi);  Yi XY (Yi, Xiaoyan);  Duan RF (Duan, Ruifei);  Wang JX (Wang, Junxi);  Zeng YP (Zeng, Yiping);  Li JM (Li, Jinmin);  Yang FH (Yang, Fuhua);  Wang C (Wang, Chao);  Zou G (Zou, Gang)
Adobe PDF(1367Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1659/539  |  提交时间：2013/03/27
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhang, L;  Wei, XC;  Liu, NX;  Lu, HX;  Zeng, JP;  Wang, JX;  Zeng, YP;  Li, JM;  Zhang, L (reprint author), Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Res & Dev Ctr Semicond Lighting, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China,zhanglian07@semi.ac.cn
Adobe PDF(1398Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1305/411  |  提交时间：2012/02/06
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Wei TB (Wei T. B.);  Hu Q (Hu Q.);  Duan RF (Duan R. F.);  Wei XC (Wei X. C.);  Yang JK (Yang J. K.);  Wang JX (Wang J. X.);  Zeng YP (Zeng Y. P.);  Wang GH (Wang G. H.);  Li JM (Li J. M.);  Wei, TB, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Semicond Lighting Technol Res & Dev Ctr, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: tbwei@semi.ac.cn
Adobe PDF(579Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1928/666  |  提交时间：2010/06/18
适用于氮化物LED外延生长的纳米级图形衬底的制备方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010263069.5, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  孙莉莉;  闫建昌;  王军喜;  刘乃鑫;  魏同波;  魏学成;  马平;  刘喆;  曾一平;  王国宏;  李晋闽
Adobe PDF(255Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：1678/298  |  提交时间：2011/08/31