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气源分子束外延生长锗硅异质结双极晶体管材料掺杂方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2002-10-16, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  黄大定;  李建平;  高斐;  林燕霞;  孙殿照;  刘金平;  朱世荣;  孔梅影
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In situ doping of 3C-SiC grown on (0001) sapphire substrates by LPCVD 会议论文
SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2001, PTS 1 AND 2, PROCEEDINGS, 389-3, TSUKUBA, JAPAN, OCT 28-NOV 02, 2001
作者:  Sun GS;  Luo MC;  Wang L;  Zhu SR;  Li JM;  Zeng YP;  Lin LY;  Sun GS Chinese Acad Sci Inst Semicond Beijing 100083 Peoples R China.
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3c-sic  In-situ Doping  Low-pressure Cvd  Sapphire Substrate  Chemical-vapor-deposition  Competition Epitaxy  
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Sun GS;  Luo MC;  Wang L;  Zhu SR;  Li JM;  Zeng YP;  Lin LY;  Sun GS,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,Beijing 100083,Peoples R China.
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