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高击穿电压的高电子迁移率晶体管 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2005-12-14, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  徐晓华;  倪海桥;  牛智川;  贺正宏;  王建林
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhang H;  Zheng HZ;  Xu P;  Peng HL;  Tan PH;  Yang FH;  Ni HQ;  Zeng YX;  Gan HD;  Zhu H;  Zhang, H, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Superlattices & Microstruct, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: zhanghao@red.semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  刘宇;  谢亮;  袁海庆;  张家宝;  祝宁华;  孙长征;  熊兵;  罗毅
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  彭红玲;  章昊;  韩勤;  杨晓红;  杜云;  倪海桥;  佟存柱;  牛智川;  郑厚植;  吴荣汉
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  徐晓华;  牛智川;  倪海桥;  徐应强;  张纬;  贺正宏;  韩勤;  吴荣汉;  江德生
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