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在锗衬底上生长无反相畴砷化镓薄膜的分子束外延方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2010-08-12, 公开日期: 2010-01-13, 2010-08-12
发明人:  王鹏飞;  吴东海;  吴兵朋;  熊永华;  詹 峰;  黄社松;  倪海桥;  牛智川
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Chang XY (Chang Xiu-Ying);  Dou XM (Dou Xiu-Ming);  Sun BQ (Sun Bao-Quan);  Xiong YH (Xiong Yong-Hua);  Ni HQ (Ni Hai-Qiao);  Niu ZC (Niu Zhi-Chuan);  Sun, BQ, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Superlattices & Microstruct, Beijing 100083, Peoples R China.
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Gong M (Gong Ming);  Chen G (Chen Geng);  He LX (He Lixin);  Li CF (Li Chuan-Feng);  Tang JS (Tang Jian-Shun);  Sun FW (Sun Fang-Wen);  Niu ZC (Niu Zhi-Chuan);  Huang SS (Huang She-Song);  Xiong YH (Xiong Yong-Hua);  Ni HQ (Ni Hai-Qiao);  Guo GC (Guo Guang-Can);  Gong, M, Univ Sci & Technol China, CAS, Key Lab Quantum Informat, Hefei 230026, Peoples R China. 电子邮箱地址: helx@ustc.edu.cn;  cfli@ustc.edu.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  常秀英;  窦秀明;  孙宝权;  熊永华;  倪海桥;  牛智川
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  牛智川;  孙宝权;  窦秀明;  熊永华;  王海莉;  倪海桥;  李树深;  夏建白
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