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New method for the growth of highly uniform quantum dots 会议论文
MICROELECTRONIC ENGINEERING, 43-4, LISBON, PORTUGAL, MAY 19-21, 1997
作者:  Pan D;  Zeng YP;  Kong MY;  Pan D Chinese Acad Sci Inst Semicond Mat Ctr POB 912 Beijing 100083 Peoples R China. 电子邮箱地址: dongpan@red.senu.ac.cn
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Self-formed Quantum Dot  Stranski-krastanow Growth Mode  Superlattice  Molecular-beam Epitaxy  Ingaas  Gaas  Dislocations  Multilayers  Defects  Strain