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金属有机物化学气相沉积装置 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2010-08-12, 公开日期: 2010-02-24, 2010-08-12
发明人:  段瑞飞;  王军喜;  王国宏;  曾一平;  李晋闽
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电学测试的汞探针装置 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2010-08-12, 公开日期: 2010-02-10, 2010-08-12
发明人:  纪 刚;  孙国胜;  宁 瑾;  刘兴昉;  赵永梅;  王 雷;  赵万顺;  曾一平;  李晋闽
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倒锥波导耦合器的制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2010-08-12, 公开日期: 2010-01-27, 2010-08-12
发明人:  尹小杰;  王 玥;  吴远大;  安俊明;  李建光;  王红杰;  胡雄伟
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边发射二维光子晶体分布反馈量子级联激光器及制备方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2010-08-12, 公开日期: 2010-03-17, 2010-08-12
发明人:  陆全勇;  张 伟;  王利军;  高 瑜;  尹 雯;  张全德;  刘万峰;  刘峰奇;  王占国
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集成肋片式红外半导体激光器结构 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2010-08-12, 公开日期: 2010-01-20, 2010-08-12
发明人:  刘俊岐;  刘峰奇;  李 路;  王利军;  王占国
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Sun Y (Sun Yu);  Pan JAQ (Pan Jiao Qing);  Zhao LJA (Zhao Ling Juan);  Chen WX (Chen Weixi);  Wang W (Wang Wei);  Wang L (Wang Li);  Zhao XAF (Zhao Xiao Fan);  Lou CY (Lou Cai Yun);  Sun, Y, Chinese AcadSci, InstSemicond, Key Lab Semicond Mat Sci, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: sunyu2006@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhang W (Zhang W.);  Wang LJ (Wang L. J.);  Zhang JC (Zhang J. C.);  Zhang QD (Zhang Q. D.);  Li L (Li L.);  Liu JQ (Liu J. Q.);  Liu FQ (Liu F. Q.);  Wang ZG (Wang Z. G.);  Zhang, W, Chinese Acad Sci, Key Lab Semicond Mat Sci, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail Address: ljwang@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Lin L (Lin L.);  Zhen HL (Zhen H. L.);  Li N (Li N.);  Lu W (Lu W.);  Weng QC (Weng Q. C.);  Xiong DY (Xiong D. Y.);  Liu FQ (Liu F. Q.);  Lu, W, Chinese Acad Sci, Natl Lab Infrared Phys, Shanghai Inst Tech Phys, Shanghai 200083, Peoples R China. 电子邮箱地址: luwei@mail.sitp.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Zhang QD (Zhang Quande);  Liu FQ (Liu Feng-Qi);  Zhang W (Zhang Wei);  Lu QY (Lu Quanyong);  Wang LJ (Wang Lijun);  Li L (Li Lu);  Wang ZG (Wang Zhanguo);  Liu, FQ, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: fqliu@semi.ac.cn
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Liu JM (Liu J. M.);  Liu XL (Liu X. L.);  Xu XQ (Xu X. Q.);  Wang J (Wang J.);  Li CM (Li C. M.);  Wei HY (Wei H. Y.);  Yang SY (Yang S. Y.);  Zhu QS (Zhu Q. S.);  Fan YM (Fan Y. M.);  Zhang XW (Zhang X. W.);  Wang ZG (Wang Z. G.)
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