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砷化镓衬底上的多层变形缓冲层的制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2008-06-04, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  高宏玲;  曾一平;  段瑞飞;  王宝强;  朱战平;  崔利杰
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Shang, LY;  Lin, T;  Zhou, WZ;  Guo, SL;  Li, DL;  Gao, HL;  Cui, LJ;  Zeng, YP;  Chu, JH;  Shang, LY, Chinese Acad Sci, Shanghai Inst Tech Phys, Natl Lab Infrared Phys, Shanghai 200083, Peoples R China. 电子邮箱地址: liyshang@mail.sitp.ac.en
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  商丽燕;  林铁;  周文政;  郭少令;  李东临;  高宏玲;  崔利杰;  曾一平;  褚君浩
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  石小溪;  赵国忠;  张存林;  崔利杰;  曾一平
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  商丽燕;  林铁;  周文政;  黄志明;  李东临;  高宏玲;  崔利杰;  曾一平;  郭少令;  褚君浩
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