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用低能离子束淀积技术在硅(111)衬底上生长氧化铈外延薄膜 期刊论文
半导体学报, 1995, 卷号: 16, 期号: 2, 页码: 153
Authors:  黄大定;  秦复光;  姚振钰;  刘志凯;  任治璋;  林兰英;  高维滨;  任庆余
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