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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Chunrong Wei; Fei Wang; Weihua Pei; Zhiduo Liu; Xurui Mao; Hongze Zhao; Sikai Wang; Yijun Wang; Xiaowei Yang; Yuanyuan Liu; Shanshan Zhao; Qiang Gui; Hongda Chen
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Wang, Zhenzhen; Liu, Wei; Wang, Chunxia; Kan, Qiang; Chen, She; Chen, Hongda
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Cao Tian; Xu Chen; Xie Yi-Yang; Kan Qiang; Wei Si-Min; Mao Ming-Ming; Chen Hong-Da
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Wei KJ (Wei Ke-jia); Li HQ (Li Hong-qiang); Chen HD (Chen Hong-da); Li EB (Li En-Bang); Liu ZH (Liu Zhi-hui)
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Wei KJ (Wei Ke-jia); Li HQ (Li Hong-qiang); Chen HD (Chen Hong-da); Li EB (Li En-Bang); Liu ZH (Liu Zhi-hui)
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: 陈率; 王春霞; 刘宏伟; 阚强 ; 许兴胜; 陈弘达
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: 於丰; 许兴胜; 阚强; 王春霞; 刘宏伟; 陈弘达
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| 微电极阵列传感器 专利
专利类型: 发明, 公开日期: 2012-09-09, 2012-09-09, 2012-09-09
发明人: 汤戎昱; 裴为华; 归强; 李雷; 陈弘达
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| 一种制作纳米压印印章的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010139179.0, 公开日期: 2011-08-30
发明人: 刘宏伟; 阚强; 王春霞; 陈弘达
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| 一种利用光谱强度变化检测介质折射率变化的装置 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010139176.7, 公开日期: 2011-08-30
发明人: 刘宏伟; 阚强; 王春霞; 陈弘达
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